Új hozzászólás Aktív témák

• #40 ukornel aktív tag

  Új Válasz 2015-04-22 15:17:11 #40

  Új hozzászólás

  Összes hozzászólása itt Válaszok az összes hozzászólására itt Válaszok erre a hozzászólásra

  Privát üzenet küldése

  

  ukornel

  aktív tag

  "Az EUV litográfiával a bérgyártók régóta szemeznek, de a TSMC szerint ez a technológia még mindig nincs kész a tömeggyártásra [...] az újítás segítségével a fejlesztés komplexitása csökkenthető"

  Kétségtelen, hogy a fejlesztés komplexitása csökken, mert nincs szükség arra a rengeteg leképezési trükkre, hogy az alkalmazott fény hullámhosszánál (193 nm) jelentősen kisebb struktúrákat hozzanak létre.
  Viszont gond az, hogy a levilágításhoz használt fényforrás (lézerrendszer) és leképező rendszer komplexitása az egekbe nő. Élettartam, robusztusság, ezek gondot jelentenek, szemben az eddig használt excimer fényforrásokkal és a közeli UV-ban működő lencserendszerekkel.
  Nem véletlen, hogy már csak az ASML gyepálja az EUV témát, akkorák a műszaki kihívások. Egy ilyen gyártósor felszerelése is horror pénz lesz. Kíváncsi vagyok, sikerül-e valaha olyanra gyúrni az EUV technológiát, hogy gazdaságilag kifizetődő legyen használni a fab-ekben.
  Mark Bohr az Intel részéről tavaly úgy nyilatkozott, hogy egy "EUV-mentes" 7 nm eljáráson dolgoznak. Ez alapján az előző kérdést (valaha gazdaságos lesz-e az EUV?) még egyáltalán nem érzem megnyugtatóan lezártnak...

Új hozzászólás Aktív témák