- Poco X6 Pro - ötös alá
- Milyen okostelefont vegyek?
- Milyen GPS-t vegyek?
- Szinte csak formaság: bemutatkozott a Pixel 6 és Pixel 6 Pro
- Honor 200 Pro - mobilportré
- Megérkezett a Google Pixel 7 és 7 Pro
- Android szakmai topik
- Samsung Galaxy Watch6 Classic - tekerd!
- iPhone topik
- Samsung Galaxy S24+ - a személyi asszisztens
Hirdetés
-
Júniusban a hardverek is vakációra mennek
ph Az asztali gépek mellett monitorok, komponensek, notebook, okosprojektor és flash NAS váltott jegyet a hétvégi kirándulásra.
-
Olcsó USB WiFi AC adapter
lo Egy olcsó WiFi AC USB adapter jó szolgálatot jelenthet, ha az új router csak elvileg támogatja a 2,4 GHz-es átvitelt.
-
Ellopták a Tesla akkumulátor-titkait
it Beperelte egy korábbi beszállítóját a Tesla, és azzal vádolja, hogy üzleti titkokat lopott a Tesla akkumulátorgyártási technológiájával kapcsolatban.
Új hozzászólás Aktív témák
-
ukornel
aktív tag
"Az EUV litográfiával a bérgyártók régóta szemeznek, de a TSMC szerint ez a technológia még mindig nincs kész a tömeggyártásra [...] az újítás segítségével a fejlesztés komplexitása csökkenthető"
Kétségtelen, hogy a fejlesztés komplexitása csökken, mert nincs szükség arra a rengeteg leképezési trükkre, hogy az alkalmazott fény hullámhosszánál (193 nm) jelentősen kisebb struktúrákat hozzanak létre.
Viszont gond az, hogy a levilágításhoz használt fényforrás (lézerrendszer) és leképező rendszer komplexitása az egekbe nő. Élettartam, robusztusság, ezek gondot jelentenek, szemben az eddig használt excimer fényforrásokkal és a közeli UV-ban működő lencserendszerekkel.
Nem véletlen, hogy már csak az ASML gyepálja az EUV témát, akkorák a műszaki kihívások. Egy ilyen gyártósor felszerelése is horror pénz lesz. Kíváncsi vagyok, sikerül-e valaha olyanra gyúrni az EUV technológiát, hogy gazdaságilag kifizetődő legyen használni a fab-ekben.
Mark Bohr az Intel részéről tavaly úgy nyilatkozott, hogy egy "EUV-mentes" 7 nm eljáráson dolgoznak. Ez alapján az előző kérdést (valaha gazdaságos lesz-e az EUV?) még egyáltalán nem érzem megnyugtatóan lezártnak... -
ukornel
aktív tag
Hoppá efölött meg el is siklottam:
"A vállalat szerint [...] a 10 nm-es node-hoz használt eszközök jelentős részét át lehet majd menteni, illetve a bérgyártó 7 nm-en már EUV, azaz az extrém ultraibolya sugárzású litográfiát fogja alkalmazni."Az az "illetve" érzésem szerint egymással merőben ellentétes állításokat tesz egymás mellé. Hogyan lehet az eszközök "jelentős" részét átmenteni, ha közben egy olyan radikális lépés van, mint a "lágy" UV -> EUV váltás?
Vagy nagyon ügyesen játszanak, vagy ez tényleg csak üres marketingblabla, ahogy az imént Tigerclaw kolega mondta... -
ukornel
aktív tag
De jó, hogy egy gyártástechnológiai hír fórumában több szó esik a különböző természeti csapásokról, mint a Katasztrófavédelem rendes éves ülésén...
-
ukornel
aktív tag
Most látom a Fudzillán:
>>ASML [...] will sell 15 of its extreme ultraviolet (EUV) chip etching systems to a "single U.S. customer" who is probably Intel.<<
Nahát. Ilyen jól állnak, egy nap alatt meg is cáfolták a kételkedésemet?
[ Szerkesztve ]
-
ukornel
aktív tag
Én eddig csak kísérleti jellegű analóg csip demózásáról olvastam (RFID). A grafén elektron energia sémájában nincs tiltott sáv. Különböző szennyező anyagokkal kísérleteznek, meg szén nanocsövekkel akarjál kombinálni. Egyszóval, az egész még erősen alapkutatási szakaszban van, még sokára lesz ebből digitális processzor.
[ Szerkesztve ]
Új hozzászólás Aktív témák
ma A vállalat a legtöbb 10 nm-es node-hoz használt eszközt átmenti, illetve az EUV litográfiának hála olcsóbb lesz a gyártás és kevesebb kockázattal kell számolni.